名片曝光使用說明

步驟1：創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼，進入虎易名片小程序，使用微信授權登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2：投放名片

創(chuàng)建名片成功后，將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質商家”欄目下,即開啟名片曝光服務，服務費用為：1虎幣/天。(虎幣充值比率：1虎幣=1.00人民幣)

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美國4Wave公司離子束鍍膜和刻蝕系統(tǒng) 產(chǎn)品概述 4Wave成立于2000年，主要人員及技術均源于美國的離子束技術公司Commonwealth Scientific。Commonwealth于2000年被Veeco收購后，其主要的技術及管理高層離開Commonwealth后，重新組建了4Wave公司。4Wave全心致力于研究與應用離子束技術，主要產(chǎn)品為基于離子束技術的薄膜沉積及刻蝕系統(tǒng)，客戶群覆蓋大學、國防、先進技術公司等領域。 4Wave技術 1. 低能高束流離子源 2. 偏壓靶離子束沉積 3. 低能量的離子束刻蝕 產(chǎn)品特點 離子束刻蝕 1. 真空鎖結構可選 2. 單片或行星式裝置 3. 射頻ICP離子源 4. 刻蝕終點監(jiān)測 - 二次離子質譜儀 5. 基于PC PLC的自動化控制系統(tǒng)架構 離子束沉積 1. 真空鎖結構可選 2. 多靶自動選擇 3. 射頻ICP離子源 4. 輔助沉積/表面預清洗離子源 5. 晶振和光學膜厚測量 6. 偏壓靶技術可選 產(chǎn)品應用 1.行星式氣冷刻蝕系統(tǒng) 2.應用于磁阻、巨磁阻的離子束沉積系統(tǒng) 3.研發(fā)型和工業(yè)型DLC硬質薄膜沉積系統(tǒng) 4.AlN介質膜離子束沉積系統(tǒng) 5.應用于半導體存儲器鍍層的IBD和IBE系統(tǒng) 6.合金納米涂層濺射系統(tǒng) 7.應用于紅外探測器的離子束沉積系統(tǒng) 8.行星式離子銑
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“離子束濺射鍍膜機/離子束刻蝕系”信息由發(fā)布人自行提供，其真實性、合法性由發(fā)布人負責。交易匯款需謹慎，請注意調查核實。