名片曝光使用說明

步驟1:創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼,進(jìn)入虎易名片小程序,使用微信授權(quán)登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2:投放名片

創(chuàng)建名片成功后,將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開啟名片曝光服務(wù),服務(wù)費(fèi)用為:1虎幣/天。(虎幣充值比率:1虎幣=1.00人民幣)

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離子束系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn):

穩(wěn)定的膜層沉積速率;化學(xué)成分穩(wěn)定
離子束刻蝕以及反應(yīng)離子束刻蝕,可以實(shí)現(xiàn)優(yōu)秀的刻蝕均勻性
多種可選項(xiàng),以適應(yīng)不同應(yīng)用要求:多種離子源可選;多種 工裝夾具可選;多種鍍膜控制方式可選;剩余氣體分析;自動(dòng)化控制方式可選

離子束濺射的優(yōu)點(diǎn):

※ 成膜粒子動(dòng)能大,因此,膜層致密性好,針眼少,對(duì)環(huán)境穩(wěn)定

※ 成膜真空度高(10-4TORR),因此,膜層純度高

※ 可以提供工件預(yù)處理以提高膜層附著力

※ 獨(dú)立控制離子能量和離子束流,可以提供更大的工藝靈活性,控制成膜組分,應(yīng)力,圍觀結(jié)構(gòu)等

※ 穩(wěn)定的沉淀速率,突出的膜層厚度控制和穩(wěn)定的成膜均勻性

※ 完全的自動(dòng)化控制-精確地工藝控制

傾斜式單旋轉(zhuǎn)工件盤:

※ 直徑六英寸或八英寸的工件盤可選

※ 水冷型

※ 突出的沉積和刻蝕均勻性

※ 傾斜式

可以通過調(diào)整傾斜角度得到工藝要求的臺(tái)階覆蓋率

可以通過調(diào)節(jié)調(diào)節(jié)傾斜角度進(jìn)一步提高均勻性

傾斜行星式工件盤:

※ 三個(gè)直徑六英寸的水冷型行星盤

※ 采用行星式工件盤以得到更好的均勻性

※ 突出的沉淀和刻蝕均勻性

※ 傾斜式

離子束濺射沉積源:

※ 多種型號(hào)射頻或直流離子源可選

※ 射頻(3cm,6cm)

最適合濺射工藝

污染小(無燈絲)

非常適合濺射介質(zhì)材料,可以用于濺射金屬

維護(hù)間隔時(shí)間超過200小時(shí)

※ 直流(3cm,5cm,8cm

最適合非反應(yīng)濺射工藝

多種配置可供選擇

燈絲型:性價(jià)比高

等離子體橋狀中和器:增強(qiáng)反應(yīng)濺射工藝能力和最小維護(hù)時(shí)間間隔在25-45小時(shí)

空心陰極中和器:減小污染,維護(hù)間隔時(shí)間長達(dá)150小時(shí)

非常適合濺射金屬,可以用于濺射介質(zhì)材料

離子源柵極選項(xiàng):

※ 材質(zhì):

石墨:適合無反應(yīng)工藝

鉬:適合大多數(shù)反應(yīng)工藝

※ 柵網(wǎng)結(jié)構(gòu):聚焦型離子源

※ 發(fā)散型輔助或者預(yù)清洗源

※ 采用三柵網(wǎng)結(jié)構(gòu)可以使濺射工藝更加穩(wěn)定

※ 四柵網(wǎng)結(jié)構(gòu)

靶材夾具:

※ 當(dāng)配置用于濺射時(shí),配置水冷型四靶材夾具??梢匝b最多四個(gè)直徑5英寸的靶材。

泵選項(xiàng):

※ 機(jī)械泵:油泵/干泵

※ 高真空泵:CTI低溫冷凝泵/渦輪分子泵

終點(diǎn)控制:

※ 濺射工藝:

時(shí)間控制:通常用于簡單沉積工藝,少于20層;

石英晶體膜厚控制儀:MAXTEK260/360C,石英晶體失效情況下,采用時(shí)間控制

系統(tǒng)技術(shù)規(guī)格:

· ※當(dāng)配置為離子束沉積時(shí),最多可以安裝四個(gè)直徑5英寸靶材

· ※提供單旋轉(zhuǎn)傾斜式工裝夾具,工件尺寸6英寸或8英寸,帶水冷;

· ※為獲得更好的均勻性,提供行星式傾斜式工裝夾具,三個(gè)6英寸行星工件盤,帶水冷;

· ※可以沉積無漂移光學(xué)薄膜;

· ※可以在低于10-4 torr的真空度下沉積,提高成膜純度;

· ※配置雙離子源時(shí),可以實(shí)現(xiàn)基片預(yù)清洗,提高膜層附著力;

· ※全自動(dòng)成膜工藝控制;

· ※多種Veeco公司射頻或直流離子源可供選擇;

· ※高真空低溫泵或渦輪分子泵可選;

· ※對(duì)于離子束沉積,成膜厚度控制可以采用時(shí)間控制或石英晶體膜厚控制儀控制;

   ※離子束沉淀適合材料:

     介質(zhì)材料:SiO2,Ta2O5,Al2O3,TiO2,Si3N4等

     金屬材料:W, Au, Cu, Pt, NiFe, CrCo,Si等

   ※IBE和RIBE適用材料:

     介質(zhì)材料:Si, SiO2, Al2O3, Polyimide等

     金屬材料:NiFe, Cu, Au, Al.




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