德國SENTECH公司 ICP等離子/ RIE反應離子刻蝕機---上海/蘇州/無錫/南京/天津/北京/武漢/西安/杭州/濟南/廣州 SENTECH儀器（德國）有限公司研發(fā)、制造和銷售先進的薄膜測量儀器（光譜橢偏儀、激光橢偏儀、反射膜厚儀）、光伏測量儀器（在線和離線測量工具）和等離子工藝設備（等離子刻蝕機、等離子沉積系統(tǒng)、原子層沉積系統(tǒng)、用戶定制多腔系統(tǒng)）。 儀器廣泛應用于微電子、光電、納米技術、LED、平板顯示、材料、有機電子、光伏、玻璃鍍膜、生物學、生命科學、等研發(fā)領域。 NOVTEC寓意“科技創(chuàng)新”，即諾威特測控科技有限公司，在德國、日本設有代表處，多年來致力于將的高科技產(chǎn)品帶給中國及亞洲的廣大用戶，并為客戶提供完善的售后服務，協(xié)助他們提高生產(chǎn)技術水平、競爭力及增加盈利，從事工業(yè)測量與測試產(chǎn)品的銷售與研發(fā)，擁有產(chǎn)品研發(fā)中心、研究院和生產(chǎn)工廠，技術力量雄厚。 產(chǎn)品簡介 SI 500為研發(fā)和小批量生產(chǎn)應用提供先進的ICP刻蝕工藝，具備高度的靈活性和模塊化設計特點,可實現(xiàn)范圍廣泛的刻蝕工藝。包括刻蝕III-V化合物、II-VI化合物、介質、石英、玻璃、硅和硅化合物等。 SI 500C低溫ICP刻蝕機，可在-100℃左右的低溫下實現(xiàn)深硅刻蝕。優(yōu)點是刻蝕后形成非常光滑的側壁，尤其在光學應用上非常重要。同時低溫刻蝕工藝的高刻蝕速率可實現(xiàn)刻穿樣片。 SI 591 采用模塊化設計、具有高度靈活性，適用于III-V 化合物、聚合物、金屬盒硅刻蝕工藝，可配置為單反反應腔系統(tǒng)、或帶預真空室或片盒站的多腔系統(tǒng)。特別適用于采用氟基氣體的工藝，具有很高的工藝穩(wěn)定性和重復性。 型號 SI 500 ICP刻蝕機 -30~ 200℃ SI 500C 低溫ICP刻蝕機 -150~ 400℃ SI 500-30 ICP刻蝕機 帶預真空室 較大12寸晶圓 SI 591 反應離子刻蝕機 帶預真空室 Etchlab200 反應離子刻蝕機 不帶預真空室 SI500-RIE 反應離子刻蝕機 帶預真空室 帶氦氣背冷卻系統(tǒng) 具體型號及技術要求歡迎來電咨詢。 聯(lián)系方式： 諾威特測控科技有限公司 Add：中國蘇州市高新技術開發(fā)區(qū)金楓南路198號 聯(lián)系人：夏雨先生 公眾微信推薦： 諾威特光伏（novteccs） 諾威特汽車（novtecqc） 諾威特光電（sznovtec）