名片曝光使用說明

步驟1:創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼,進入虎易名片小程序,使用微信授權(quán)登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2:投放名片

創(chuàng)建名片成功后,將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開啟名片曝光服務(wù),服務(wù)費用為:1虎幣/天。(虎幣充值比率:1虎幣=1.00人民幣)

關(guān)于曝光服務(wù)

名片曝光只限于使用免費模板的企業(yè)產(chǎn)品詳細(xì)頁下,因此當(dāng)企業(yè)使用收費模板時,曝光服務(wù)將自動失效,并停止扣除服務(wù)費。

<

返回首頁

產(chǎn)品分類 更多>>

該系列設(shè)備主要集中頻磁控濺射、電弧離子蒸發(fā)和離子源及脈沖偏壓結(jié)合等技術(shù)為一體,實行全自動化控制。此設(shè)備廣泛應(yīng)用于表帶、表殼、手機殼、五金、餐具等工件上鍍制 TiN,TiC,TiCN、TiAIN,CrN,Cu,Au,Al2O3等各種裝飾膜層。 參數(shù)說明: 型號 JTL-1090 JTL-1110 JTL-1312 JTL-1613 真空室尺寸 Φ 1000Χ900mm Φ 1100Χ1000mm Φ 1300Χ1200 mm Φ 1600Χ1300 mm 鍍膜方式及主要配置 3個電弧+平面矩形陰極2對 6個電弧+圓柱陰極2對+平面矩形陰極1對 6個電弧+圓柱陰極4對+平面矩形陰極1對 8個電弧+圓柱陰極8對+平面矩形陰極1對 鍍膜種類 金屬膜,介質(zhì)膜,化合物膜,反應(yīng)膜,多功能層次膜 電源 電弧電源,真空磁控電源,中頻磁控電源,脈沖偏壓電源,離子源電源 真空室結(jié)構(gòu) 立式前(單)開門,后置抽氣系統(tǒng),雙層水冷 真空系統(tǒng)組成 分子泵(擴散泵)+羅茨泵+機械泵 極限真空 8.0Χ10-4 抽氣時間 大氣抽至3Χ10-3Pa≤15min 工件運動方式 公 /自轉(zhuǎn),變頻調(diào)速 工件烘烤溫度 常溫到 350oC可調(diào)可控 控制方式 全自動化控制 PC+PLC/PC+HMI 備注 該設(shè)備可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做
產(chǎn)品推薦
“供應(yīng)中頻磁控鍍膜設(shè)備”信息由發(fā)布人自行提供,其真實性、合法性由發(fā)布人負(fù)責(zé)。交易匯款需謹(jǐn)慎,請注意調(diào)查核實。