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產(chǎn)品推薦
Fluid Purification
GE阻垢劑MDC150
Argo MDC150阻垢劑與傳統(tǒng)阻垢劑的技術(shù)特點(diǎn)比較
晶體修改型阻垢劑 Argo MDC 150阻垢劑
阻垢劑類(lèi)型 晶體修改型 阻止晶體生成型
阻垢原料 含磷小分子或含磷多元共聚物(有機(jī)膦)與其他高分子聚合物的復(fù)合配方 樹(shù)枝狀聚合物Dendrimer的高純度單一合成體
生產(chǎn)工藝 買(mǎi)來(lái)用于鍋爐或冷卻循環(huán)水阻垢的原料藥劑按一定比例復(fù)合配制,難以保證配方
純度和溶解度 擁有世界科技前沿完整生產(chǎn)線(xiàn)及專(zhuān)利技術(shù)自行生產(chǎn)合成Dendrimer
阻垢原理 促使金屬微晶(Ca2++SO42-=CaSO4)生成后再通過(guò)對(duì)晶體生長(zhǎng)進(jìn)行修改,阻止微晶長(zhǎng)大為
沉淀 直接阻止微晶(CaSO4)生成
阻垢產(chǎn)物 大量微晶生成并懸浮于濃水中,當(dāng)其覆蓋
于膜表面時(shí)，則導(dǎo)致反滲透膜污堵 無(wú)微晶生成
阻垢劑對(duì)膜的污染影響 含磷分子設(shè)計(jì)導(dǎo)致其本身也可與膜表面
生成氫鍵鏈接,從而導(dǎo)致膜的污堵 樹(shù)枝狀聚合物Dendrimer與膜不會(huì)發(fā)生任何反應(yīng)或附著
阻垢方式對(duì)膜的污染影響 由于其本質(zhì)為較原始的螯和掩蔽,故會(huì)有大量微晶生成,當(dāng)加藥量過(guò)大時(shí),微晶會(huì)在
膜表面形成凍膠狀排列,導(dǎo)致膜的污染 Dendrimer的阻垢方式為完全防止微晶產(chǎn)生,所以不會(huì)在膜表面產(chǎn)生任何污染
