名片曝光使用說明

步驟1:創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼,進入虎易名片小程序,使用微信授權(quán)登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2:投放名片

創(chuàng)建名片成功后,將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開啟名片曝光服務(wù),服務(wù)費用為:1虎幣/天。(虎幣充值比率:1虎幣=1.00人民幣)

關(guān)于曝光服務(wù)

名片曝光只限于使用免費模板的企業(yè)產(chǎn)品詳細頁下,因此當(dāng)企業(yè)使用收費模板時,曝光服務(wù)將自動失效,并停止扣除服務(wù)費。

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該系列設(shè)備主要是(集)直流磁控濺射,中頻濺射和電弧電子蒸發(fā)三種技術(shù)融合一體,結(jié)合線性離化脈沖偏壓可使沉積顆料細化,膜層各項性能提高,能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復(fù)合膜等。經(jīng)公司技術(shù)人員多年研發(fā),通過特有的陰極電弧離子和非平衡磁控系統(tǒng),并開發(fā)出整套PROPOWER系列計算機自動控制系統(tǒng),使鍍膜膜層附著力致密度、從復(fù)度一致性好等特點,解決了人工手動操作復(fù)雜性、膜層顏色不一致等問題。廣泛適用于手表、手機殼、五金、潔具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。鍍制Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各類金屬石膜(DLC)。 1、 磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論,把陰極表面磁場擴展到接近工件表面,提高了濺射原子離化率。既保留磁控濺射的細膩又增強了表面光澤度。 2、電弧等離子體蒸發(fā)源性能,在優(yōu)化陰極及磁場結(jié)構(gòu)鍍膜時可在30A電流下工作,鍍膜膜層和基底界面產(chǎn)生原子擴散,又具有離子束輔助沉積的特點。 型號 SXL-DCLC-800 SXL-DCLC -1000 SXL-DCLC -1250 真空室尺寸 ¢800×1000MM ¢1000×1000MM ¢1250×1100MM 鍍膜方式及主要配置 六個多弧源 一套圓柱靶 一套平面矩形磁控濺射靶 八個多弧源 一對孿生(中頻)磁控濺射靶 一套平面矩形磁控濺射靶 十二個多弧源 一對孿生(中頻)磁控濺射靶 兩套平面矩形磁控濺射靶 鍍膜方式及主要配置 電弧電源、直流磁控電源、中頻磁控電源、燈絲電源、脈沖電源、線性離化源 工藝氣體控制 質(zhì)量流量計 電磁陶瓷閥 真空室結(jié)構(gòu) 立式側(cè)(單)開門結(jié)構(gòu),后置抽氣系統(tǒng),雙層水冷 真空系統(tǒng)組成 分子泵 羅茨泵 機械泵(5.0×10-4PA) 工件烘烤溫度 常溫到500度可調(diào)可控(PID控溫),輻射加熱 工件運動方式 公自轉(zhuǎn)變頻調(diào)速,0~20轉(zhuǎn)/分 測量方式 數(shù)顯復(fù)合真空計:測量范圍從大氣至1.0×10-5PA 控制方式 手動/自動/PC/PLC HMI/PC四種方式可選 備注 以上設(shè)備可按客戶實際及特殊工藝要求設(shè)計訂做
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