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從1970年起，AEROTECH就為用戶設(shè)計和制造zui高性能的運(yùn)動控制（motion control）和定位系統(tǒng)（positioning systems）。用戶覆蓋世界各地的工業(yè)，政府，科學(xué)和研究機(jī)構(gòu)。AEROTECH精密的運(yùn)動控制產(chǎn)品（motion control products）為當(dāng)前要求苛刻的市場如:醫(yī)療設(shè)備和生命科學(xué)(medical device and life sciences)， 半導(dǎo)體和平板顯示(medical device and life sciences)， 光子學(xué)(photonics)， 汽車(automotive)， 數(shù)據(jù)存儲(data storage)， 激光處理(laser processing)， 軍shi/航空宇宙(military/aerospace)， 電子制造和測試(electronic manufacturing and test)， 裝配(assembly)， 研究和開發(fā)(research and development)，及其他需要高精度，高生產(chǎn)能力運(yùn)動解決方案的應(yīng)用提供了zui高的性能。
Aerotech qnp2雙軸壓電納米定位平臺,QNP2系列XY并聯(lián)運(yùn)動壓電定位平臺在緊湊，小巧的封裝中結(jié)合了亞納米級分辨率，高動態(tài)性能和出色的幾何性能,QNP2壓電位移臺采用平行運(yùn)動的彎曲和計量設(shè)計，可確保水平的多軸精度。借助經(jīng)過FEA優(yōu)化的精密撓曲，以確保高剛度和長使用壽命，QNP2位移臺具有1流的剛度和共振頻率，從而實(shí)現(xiàn)了高工藝通量和快速的閉環(huán)響應(yīng)。
QNP3系列XYZ并聯(lián)運(yùn)動壓電定位平臺在緊湊的小尺寸封裝中結(jié)合了亞納米分辨率，高動態(tài)特性和出色的幾何性能。QNP3系列壓電平臺具有大的，清晰的孔徑，閉環(huán)行程可達(dá)200 µm x 200 µm x 20 µm（開環(huán)行程為240 µm x 240 µm x 25 µm）。該設(shè)計非常適合光學(xué)和掃描探針顯微鏡或其他檢查或制造應(yīng)用，這些應(yīng)用需要通過三個DoF操作來進(jìn)行兩側(cè)零件的訪問。
設(shè)備壽命長
開環(huán)和真空版本
高精度，無摩擦的撓性導(dǎo)向
大方形透明光圈，70 mm x 70 mm
通過并聯(lián)運(yùn)動設(shè)計實(shí)現(xiàn)出色的多軸精度
高剛度和動態(tài)特性，可實(shí)現(xiàn)高工藝產(chǎn)量
正在申請zhuan利的設(shè)計提供了無與倫比的幾何性能
具有直接計量電容傳感器的出色定位分辨率和線性度
Model | QNP3-100XYAZ-030-10 | QNP3-100XYAZ-100-10 | QNP3-150XYAZ-200-20 | |
Closed-Loop Travel (X x Y x Z) | 30 μm x 30 μm x 10 μm | 100 µm x 100 µm x 10 µm | 200 um x 200 um x 20 um | |
Open-Loop Travel, -30 to +150 V(1) | 36 μm x 36 μm x 12 μm | 120 µm x 120 µm x 12 µm | 240 um x 240 um x 25 um | |
Resolution(2) | Closed-Loop | 0.1 nm (XY); 0.15 nm (Z) | 0.30 nm (XY); 0.15 nm (Z) | 0.4 nm (XY), 0.15 nm (Z) |
Open-Loop | 0.03 nm (XY); 0.05 nm (Z) | 0.15 nm (XY); 0.05 nm (Z) | 0.2 nm (XY), 0.1 nm (Z) | |
Linearity(3,4) | 0.02% (XY); 0.04% (Z) | 0.01% (XY); 0.02% (Z) | 0.01% (XY); 0.02% (Z) | |
Bidirectional Repeatability(5) | 4 nm (XY); 3 nm (Z) | 2 nm (XY); 1 nm (Z) | 2 nm (XY); 2 nm (Z) | |
Straightness | 25 nm (XY); 50 nm (Z) | <10 nm (xy); <20 nm (z) | 10 nm (XY); 40 nm (Z) | |
2D Flatness (Over Full XY Travel) | 10 nm | <5 nm | <10 nm | |
Pitch | 10 μrad (2.1 arc sec) (XY) 6 μrad (1.2 arc sec) (Z) | 2 µrad (0.4 arc sec) (XY); 6 µrad (1.2 arc sec) (Z) | 2 urad (0.4 arcsec) (XY); 6 urad (1.2 arcsec) (Z) | |
Yaw | 5 μrad (1 arc sec) (XY) 5 μrad (1 arc sec) (Z) | 10 µrad (2.1 arc sec) (XY); 5 µrad (1 arc sec) (Z) | 20 urad (4 arcsec) (XY); 6 urad (1.2 arcsec) (Z) | |
Stiffness (in direction of motion)(6) | 10 N/μm (XY); 25 N/μm (Z) | 1.9 N/µm (XY); 13 N/µm (Z) | 1.3 N/µm (XY); 8.7 N/um (Z) | |
Unloaded Resonant Frequency(6) | 1850 Hz (XY); 2200 Hz (Z) | 490 Hz (XY); 1425 Hz (Z) | 330 Hz (XY); 910 Hz (Z) | |
Resonant Frequency (200 gram load)(6) | 950 Hz (XY); 1390 Hz (Z) | 350 Hz (XY); 910 Hz (Z) | 260 Hz (XY); 670 Hz (Z) | |
Max Payload(7) | 1 kg | 1 kg | 3 kg | |
Max Acceleration (Unloaded)(8) | 400 m/s2 (XY); 2000 m/s2 (Z) | 115 m/s2 (XY); 2000 m/s2 (Z) | 35 m/s2 (XY); 1000 m/s2 | |
Moving Mass (Unloaded) | 0.24 kg (XY); 0.05 kg (Z) | 0.21 kg (XY); 0.05 kg (Z) | 0.58 kg (XY); 0.10 kg | |
Stage Mass | 0.53 kg | 0.56 kg | 1.3 kg | |
Material | Anodized aluminum(9) | Anodized aluminum(9) | Anodized aluminum(9) | |
MTBF (Mean Time Between Failure) | 30,000 Hours | 30,000 Hours | 30,000 Hours | |
詳詢李工1-8-6-8-6-3-4-6-0-6-6（vx）
