泉特QRCJ系列鎮(zhèn)江去離子水設(shè)備 　　針對(duì)樹脂鏡片的制造，去離子水設(shè)備主要用于鏡片的清洗、鍍膜的工藝中，去離子水設(shè)備達(dá)到相關(guān)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的水質(zhì)（0.5-18 MΩ.CM），泉特去離子水設(shè)備盡可能地減少各級(jí)的污染，延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命、降低操作人員的維護(hù)工作量。在工藝上，泉特QRCJ系列去離子水設(shè)備取市政自來水為源水，流經(jīng)介質(zhì)過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主設(shè)備系統(tǒng)、離子交換混床（或EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等處理，泉特QRCJ系列去離子水設(shè)備可以使產(chǎn)水電阻值達(dá)到0.5-18 MΩ.CM?！　? 泉特QRCJ系列鎮(zhèn)江去離子水設(shè)備典型工藝： 　　預(yù)處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－粗混合床－精混合床－水箱－水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－精密過濾器－用水對(duì)象 （≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)去離子水設(shè)備工藝) 　　預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－化水箱－水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對(duì)象（≥18MΩ.CM）(新去離子水設(shè)備工藝) 　　 預(yù)處理－一級(jí)反滲透－加藥設(shè)備（PH調(diào)節(jié)）－中間水箱－第二級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）－水箱－水泵－EDI裝置－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對(duì)象（≥17MΩ.CM）(新去離子水設(shè)備工藝) 　　預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－水箱－水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對(duì)象（≥15MΩ.CM）(新去離子水設(shè)備工藝) 　　預(yù)處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－水泵－粗混合床－精混合床－紫外線殺菌器－精密過濾器－用水對(duì)象 （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)去離子水設(shè)備工藝) 　　RO、 EDI、樹脂離子交換是當(dāng)今制備水的必選工藝設(shè)備。其中RO反滲透是當(dāng)今一項(xiàng)的膜分離技術(shù)，是依靠反滲透膜在壓力下使溶液中的溶劑與溶質(zhì)進(jìn)行分離的過程?？捎行У厝コ械闹亟饘匐x子、鹽類、細(xì)菌等，去除率達(dá)到98%以上； EDI連續(xù)電除鹽設(shè)備ConRinuous ElecRro deionizaRion（電解式連續(xù)去離子）為模塊式設(shè)備，可根據(jù)需要任意組合，該系統(tǒng)不需要停設(shè)備再生，無需酸堿，因此廢水排放問題也得到解決，更符合環(huán)保要求?？蓪⑺碾娮柚涤?.05-0.1MΩ/cm提升至15-18MΩ/cm。EDI裝置現(xiàn)已應(yīng)用在半導(dǎo)體、電廠、電子、制藥、實(shí)驗(yàn)室等領(lǐng)域制備水。 泉特QRCJ系列鎮(zhèn)江去離子水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域： 　 ▲電子工業(yè)用水：集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器件沖洗水 ▲制藥行業(yè)用水：大輸液、針劑、片劑、生化制品、設(shè)備清洗等 ▲ 化工行業(yè)工藝用水：化工循環(huán)水、化工產(chǎn)品制造等 ▲ 電力行業(yè)鍋爐補(bǔ)給水：火力發(fā)電鍋爐、廠礦中低壓鍋爐動(dòng)力系統(tǒng) ▲ 食品工業(yè)用水：飲用凈水、飲料、啤酒、白酒、保健品等 ▲海水、苦咸水淡化：海島、艦船、海上鉆進(jìn)平臺(tái)、苦咸水地區(qū) ▲其它工藝用水：汽車、家電涂裝、鍍膜玻璃、化裝品、精細(xì)化學(xué)品等