化學(xué)氣相沉積(CVD)是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用為廣泛的用來(lái)沉積多種材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。從理論上來(lái)說(shuō)，它是很簡(jiǎn)單的：兩種或兩種以上的氣態(tài)原材料導(dǎo)入到一個(gè)反應(yīng)室內(nèi)，然后他們相互之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成一種新的材料，沉積到晶片表面上。淀積氮化硅膜(Si3N4)就是一個(gè)很好的例子，它是由硅烷和氮反應(yīng)形成的。管式加熱爐主要類型簡(jiǎn)介：按爐體形狀劃分，可以分為:箱式爐、立式爐、園筒爐和無(wú)焰爐等。1、箱式爐有斜頂爐和方箱爐，這種爐型歷史悠久，是應(yīng)用較早的爐型。其長(zhǎng)、寬、高大致接近，輻射室和對(duì)流室用火墻隔開，火嘴裝于側(cè)壁，煙囪設(shè)于爐外，爐管水平排列。2、立式爐爐膛為長(zhǎng)方形，輻射管排于爐兩側(cè)，對(duì)流管排在輻射室上部的對(duì)流室中，爐底部設(shè)有兩排火嘴，爐中間砌一堵花墻，噴火嘴在花墻兩邊燃燒。3、圓筒爐與立式爐相似，方型的對(duì)流室位于輻射室上部，煙囪安裝在對(duì)流室的上部，并裝有煙道擋板，可調(diào)節(jié)風(fēng)量，火嘴在爐底中央，火焰向上噴射。其與立式爐不同的是輻射室為圓筒式，輻射管沿圓周垂直排列成一圈，對(duì)流管分立式和水平兩種。4、無(wú)焰爐其外型與立式爐相似，爐中間排輻射管，頂部排對(duì)流管，兩側(cè)爐墻布滿火嘴，燃燒的速度快，在燃燒道里完成燃燒的全部過(guò)程，因此沒(méi)有火焰。集合管的結(jié)構(gòu)有幾種？答：由于工藝介質(zhì)溫度較低，上集合管的直徑一般較小，材料較低。為了解決熱補(bǔ)償問(wèn)題，一般采用固定支座和軸向滑動(dòng)軸承支座相結(jié)合的支撐方式。下集合管有全熱壁、冷—熱壁、全冷壁三種結(jié)構(gòu)。1）全熱壁結(jié)構(gòu)的支集合管和總集合管均為熱壁，外保溫或置于保溫箱內(nèi)(如圖17所示)，因其造價(jià)高和膨脹問(wèn)題難以解決，現(xiàn)在已很少使用。2）冷—熱壁混合的支集合管采用熱壁結(jié)構(gòu)，外保溫或與下尾管一起置于保溫箱內(nèi)。一般在在支集合管的中間采用固定支座，兩端采用滑動(dòng)支座，往總集合管去的連接管也置于中間，連接管只承受總集合管熱膨脹引起的位移，而總集合管一般采用冷壁結(jié)構(gòu)。3）冷壁結(jié)構(gòu)的總集合管一般分為三層結(jié)構(gòu)，承壓的外殼一般采用碳鋼或低合金鋼，中間是保溫層，內(nèi)部是高合金25-20或Lncoloy800H襯套以防止氣流對(duì)保溫層的沖刷。