對(duì)許多金屬和金屬合金一個(gè)有趣的爭(zhēng)論就是，他們是通過(guò)物理氣相沉積(PVD)還是通過(guò)化學(xué)氣相沉積(CVD)能得到.好的沉積效果。盡管CVD比PVD有更好的臺(tái)階覆蓋特性，但目前諸如銅的子晶層和鉭氮擴(kuò)散層薄膜都是通過(guò)PVD來(lái)沉積的，因?yàn)楝F(xiàn)有的大量裝置都是基于PVD系統(tǒng)的，工程技術(shù)人員對(duì)PVD方法也有較高的熟練程度。一些人建議，既然臺(tái)階覆蓋特性越來(lái)越重要(尤其是在通孔邊墻覆蓋)，CVD方法將成為必不可少的技術(shù)。相似的爭(zhēng)論也存在于產(chǎn)生低k值介質(zhì)材料方面：是使用CVD方法好還是采用旋涂工藝好？在化學(xué)氣相沉積中，決定晶圓間薄膜均勻性的重要參數(shù)之一是晶圓間的氣體是流動(dòng)的。上圖所示是Novellus概念下ThreeALTUS系統(tǒng)中，一個(gè)晶圓及其基座上的SiH4集中度和鎢沉積率的典型路徑圖。管式爐結(jié)構(gòu)爐管系統(tǒng)：1、爐管：是爐子的重要部件，有輻射管和對(duì)流管。爐管表面積就是加熱爐的傳熱表面積。其金屬耗量占爐子總鋼耗量的百分之四十到五十，投資占百分之六十以上。爐管直徑有102mm、127mm、152mm等幾種，管壁厚度一般為6~12mm，輻射管因其外壁受火焰直接輻射，管內(nèi)受油品較高溫度、壓力和腐蝕聯(lián)合作用，選材時(shí)應(yīng)考慮材料的耐熱性、耐高溫強(qiáng)度及耐腐蝕性。2、爐管連接件即爐管彎頭，常見(jiàn)有箱式彎頭和“U”型彎頭。3、爐管支承件，常見(jiàn)的支承件有導(dǎo)向架和拉鉤，以對(duì)立管導(dǎo)向或保持穩(wěn)定。水平管則常用托管架，或掛管架支承。對(duì)排列密集的爐管則用管板支承。對(duì)多路并聯(lián)管為均勻分布各支路流體則用拔制集合管。管式氣氛電阻爐主要運(yùn)用于冶金，玻璃，熱處理，鋰電正負(fù)極材料，新能源，磨具等行業(yè)測(cè)定材料在一定氣氛條件下的設(shè)備。優(yōu)點(diǎn)：工藝成熟;爐型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單；操作容易，便于控制，能連續(xù)生產(chǎn)；乙烯、丙烯收率較高，產(chǎn)物濃度高；動(dòng)力消耗少，熱效率高；裂解氣和煙道氣的大部分可以設(shè)法回收；原料的適用范圍隨著裂解技術(shù)的進(jìn)步而日漸擴(kuò)大；可以多爐組合而大型生產(chǎn)。