管式加熱爐的余熱回收系統(tǒng)包括些方面？答：包括余熱鍋爐、空氣預熱器、鼓風機、引風機、煙風道及其調(diào)節(jié)和截斷用蝶閥等,如圖8所示。叫燃燒器？燃燒器的組成和種類有些？答：燃燒器是一種將燃料和空氣按照所需混合比和流速在湍流條件下集中送入爐內(nèi)，確保和維持點火及燃燒條件的部件。燃燒器通常由燃料噴嘴、配風器和燃燒道三個部分組成。燃燒器的種類有燃油燃燒器、燃氣燃燒器和油-氣聯(lián)合燃燒器。產(chǎn)品概述：RK-1400T-S6010LB3三溫區(qū)真空氣氛管式爐以硅碳棒為發(fā)熱元件；雙層風冷結構；氧化鋁纖維真空吸附一次成型；高密度硅碳棒真空擠壓成型；剛玉管外徑為60、80mm。三個溫區(qū)分別由三個獨立的溫控系統(tǒng)來控制且都為PID30段程序化控溫?？赏ㄟ^調(diào)節(jié)三個溫區(qū)的控溫程序使爐管內(nèi)溫場形成一溫度梯度，爐管兩端裝有不銹鋼法蘭，不銹鋼法蘭上安裝有氣嘴、閥門和壓力表，抽真空時真空度能夠達到10-3Pa,此系列真空氣氛管式爐可以用CVD或PVD方法來生長納米材料和制作各種薄膜。主要用途：RK-1400T-S6010LB3三溫區(qū)真空氣氛管式爐是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗、真空退火用的理想產(chǎn)品.，廣泛用于電子陶瓷產(chǎn)品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）工藝等。PECVD法按沉積腔室等離子源與樣品的關系上可以分成兩種類型：直接法：樣品直接接觸等離子體，樣品或樣品的支撐體就是電極的一部分。間接法：或稱離域法。待沉積的樣品在等離子區(qū)域之外，等離子體不直接打到樣品表面，樣品或其支撐體也不是電極的一部分。直接法又分成兩種：（1）管式PECVD系統(tǒng)：即使用像擴散爐管一樣的石英管作為沉積腔室，使用電阻爐作為加熱體，將一個可以放置多片硅片的石墨舟插進石英管中進行沉積。這種設備的主要制造商為德國的Centrotherm公司、中國的捷佳偉創(chuàng)公司、第四十八研究所、七星華創(chuàng)公司、青島賽瑞達公司。（2）板式PECVD系統(tǒng)：即將多片硅片放置在一個石墨或碳纖維支架上，放入一個金屬的沉積腔室中，腔室中有平板型的電極，與樣品支架形成一個放電回路，在腔室中的工藝氣體在兩個極板之間的交流電場的作用下在空間形成等離子體，分解SiH4中的Si和H，以及NH3中的N形成SiNx沉積到硅表面。這種沉積系統(tǒng)目前主要是日本島津公司在進行生產(chǎn)。間接法又分成兩種：（1）微波法：使用微波作為激發(fā)等離子體的頻段。微波源置于樣品區(qū)域之外，先將氨氣離化，再轟擊硅烷氣，產(chǎn)生SiNx分子沉積在樣品表面。這種設備目前的主要制造商為德國的Roth