名片曝光使用說明

步驟1：創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼，進入虎易名片小程序，使用微信授權登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2：投放名片

創(chuàng)建名片成功后，將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開啟名片曝光服務，服務費用為：1虎幣/天。(虎幣充值比率：1虎幣=1.00人民幣)

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半導體清洗機濕式清洗制程中，主要應用項目包含晶圓清洗與濕式蝕刻兩項，晶圓(濕式)清洗制程主要是希望藉由化學藥品與清洗設備，清除來自周遭環(huán)境所附著在晶圓表面的臟污，以達到半導體組件電氣特性的要求與度。清洗安全操作規(guī)范：(1)有機廢液和無機廢液要回收嚴格分開，放入不同密封箱里；(2)丙酮、異丙醇和去膠液的溫度已經(jīng)固定，不得隨意更改。如確有需要，向領班匯報，等待上級批準；(3)硫酸和雙氧水混合溶液一定要等到冷卻到30°C以下才能回收；(4)溶液配制或回收時，濺到操作臺上的溶液一定要用水沖干凈，再用氮氣*槍吹干，保持工作臺的清潔、干凈。在半導體濕式清洗制程中，晶圓(濕式)清洗制程主要是希望藉由化學藥品與清洗設備，清除來自周遭環(huán)境所附著在晶圓表面的臟污，以達到半導體組件電氣特性的要求與度。過去RCA多槽濕式清洗一直是晶圓清洗的主要技術，不過隨著近年來制程與清洗設備的演進，不但在清洗制程中不斷產(chǎn)生新的技術，也隨著半導體后段封裝技術的演進，清洗設備也逐漸進入封裝廠的生產(chǎn)線中。
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“半導體清洗、蘇州晶淼半導體、洛陽半導體清”信息由發(fā)布人自行提供，其真實性、合法性由發(fā)布人負責。交易匯款需謹慎，請注意調(diào)查核實。