名片曝光使用說明

步驟1:創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼,進(jìn)入虎易名片小程序,使用微信授權(quán)登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2:投放名片

創(chuàng)建名片成功后,將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開啟名片曝光服務(wù),服務(wù)費(fèi)用為:1虎幣/天。(虎幣充值比率:1虎幣=1.00人民幣)

關(guān)于曝光服務(wù)

名片曝光只限于使用免費(fèi)模板的企業(yè)產(chǎn)品詳細(xì)頁(yè)下,因此當(dāng)企業(yè)使用收費(fèi)模板時(shí),曝光服務(wù)將自動(dòng)失效,并停止扣除服務(wù)費(fèi)。

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產(chǎn)品概述:RK-1400T-S6010LB3三溫區(qū)真空氣氛管式爐以硅碳棒為發(fā)熱元件;雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu);氧化鋁纖維真空吸附一次成型;高密度硅碳棒真空擠壓成型;剛玉管外徑為60、80mm。三個(gè)溫區(qū)分別由三個(gè)獨(dú)立的溫控系統(tǒng)來控制且都為PID30段程序化控溫??赏ㄟ^調(diào)節(jié)三個(gè)溫區(qū)的控溫程序使?fàn)t管內(nèi)溫場(chǎng)形成一溫度梯度,爐管兩端裝有不銹鋼法蘭,不銹鋼法蘭上安裝有氣嘴、閥門和壓力表,抽真空時(shí)真空度能夠達(dá)到10-3Pa,此系列真空氣氛管式爐可以用CVD或PVD方法來生長(zhǎng)納米材料和制作各種薄膜。主要用途:RK-1400T-S6010LB3三溫區(qū)真空氣氛管式爐是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火用的理想產(chǎn)品.,廣泛用于電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e(CVD)工藝等。選用燃燒器的一般原則是?答:考慮到管式爐的燃料來源,工藝要求和爐型特點(diǎn),選用燃燒器時(shí)注意下列各點(diǎn):1)燃燒器應(yīng)與燃料特點(diǎn)相適應(yīng);2)燃燒器應(yīng)滿足管式爐的工藝需求;3)燃燒器應(yīng)與爐型配合;4)燃燒器應(yīng)滿足節(jié)能和環(huán)保要求。是吹灰器?吹灰器的種類有些?答:吹灰器是利用噴射蒸汽、空氣或產(chǎn)生超聲波的方法去清掃爐管表面灰塵的一種工具。吹灰器的種類有蒸汽吹灰器、聲波吹灰器、激波吹灰器等。沉積的均勻性與電極和腔室的設(shè)計(jì)很有關(guān)系。管式PECVD系統(tǒng)由于其石墨舟中間鏤空,因此利用了硅片作為電極的一部分,因此輝光放電的特性就與硅片表面的特性有了一定的關(guān)系,比如硅片表面織構(gòu)化所生成的金子塔的狀態(tài)就對(duì)等離子體放電產(chǎn)生影響,而目前硅片的電導(dǎo)率的不同也影響到等離子場(chǎng)的均勻性。另外管式PECVD的氣流是從石英管一端引入,這樣也會(huì)造成工藝氣體分布的不均勻。板式PECVD系統(tǒng)使用了襯底板作為電極,而且采用勻氣的Shower系統(tǒng),但是由于襯底板在長(zhǎng)期加熱后會(huì)有稍微的翹曲,從而造成平行板電極間距的不一致,也會(huì)造成片間不均勻。另外,等離子體直接法在大面積沉積時(shí)會(huì)造成由于高頻波長(zhǎng)所帶來的附加的不均勻性。
產(chǎn)品推薦
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