名片曝光使用說明

步驟1：創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼，進(jìn)入虎易名片小程序，使用微信授權(quán)登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2：投放名片

創(chuàng)建名片成功后，將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開啟名片曝光服務(wù)，服務(wù)費用為：1虎幣/天。(虎幣充值比率：1虎幣=1.00人民幣)

關(guān)于曝光服務(wù)

名片曝光只限于使用免費模板的企業(yè)產(chǎn)品詳細(xì)頁下，因此當(dāng)企業(yè)使用收費模板時，曝光服務(wù)將自動失效，并停止扣除服務(wù)費。

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RCA清洗附加兆聲能量后，可減少化學(xué)品及DI水的消耗量，縮短晶片在清洗液中的浸蝕時間，減輕濕法清洗的各向同性對積體電路特征的影響，增加清洗液使用壽命。清洗常用的化學(xué)試劑丙酮（ACE）：【用途】除去有機殘余物，有機顆粒；除去光刻膠。異丙醇（IPA）：【用途】溶解丙酮，將有機殘余物溶解。DI水：【用途】溶解異丙醇，帶走殘余物。?SPM:(H2SO4:H2O2:H2O）。MEMS制造的特點是，它含有3D精細(xì)圖形的深刻蝕，并要求橫向深刻蝕埋層氧化物的釋放加工工藝。用常規(guī)的濕法刻蝕和清洗技術(shù)是不能完成從這種非常緊密的幾何圖形除去可能的刻蝕殘留物，并確保懸臂梁和膜片的無靜摩擦操作的。已經(jīng)研究用無水HF/甲醇（AHF/MeOH））犧牲層氧化物刻蝕工藝作為后者的可行解決方法。
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“清洗|蘇州晶淼半導(dǎo)體|上海晶片清洗設(shè)備”信息由發(fā)布人自行提供，其真實性、合法性由發(fā)布人負(fù)責(zé)。交易匯款需謹(jǐn)慎，請注意調(diào)查核實。