名片曝光使用說(shuō)明

步驟1:創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼,進(jìn)入虎易名片小程序,使用微信授權(quán)登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2:投放名片

創(chuàng)建名片成功后,將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開(kāi)啟名片曝光服務(wù),服務(wù)費(fèi)用為:1虎幣/天。(虎幣充值比率:1虎幣=1.00人民幣)

關(guān)于曝光服務(wù)

名片曝光只限于使用免費(fèi)模板的企業(yè)產(chǎn)品詳細(xì)頁(yè)下,因此當(dāng)企業(yè)使用收費(fèi)模板時(shí),曝光服務(wù)將自動(dòng)失效,并停止扣除服務(wù)費(fèi)。

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管式加熱爐是分類的?答:按功能可分為:加熱型和加熱—反應(yīng)型兩大類。加熱型管式爐:常壓爐、減壓爐、各種分餾塔進(jìn)料加熱爐、塔底重沸爐、焦化爐、重整爐和加氫爐等各種反應(yīng)器(塔)進(jìn)料加熱爐;加熱—反應(yīng)型管式爐:制氫爐、乙烯裂解爐等。按主要傳熱方式分為:對(duì)流爐、輻射爐、輻射-對(duì)流型爐和雙面輻射爐。按爐型可分為:圓筒爐、立式爐和大型箱式爐三大類。方法的優(yōu)缺點(diǎn)比較各種方法都有其有缺點(diǎn):從大的方面講,直接PECVD法對(duì)樣品表面有損傷,會(huì)增加表面少子的復(fù)合,但是也正是由于其對(duì)表面的轟擊作用,可以去除表面的一些自然氧化層,使得表面的雜質(zhì)原子得到抑制,另外直接法可以使得氫原子或氫離子更深入地進(jìn)入到多晶硅晶界中,使得晶界鈍化更充分。使用不同頻率的PECVD系統(tǒng),也各有一定的優(yōu)缺點(diǎn):(1)頻率越高均勻面積越小,越難于達(dá)到大面積均勻性。(2)頻率越低對(duì)硅片表面的損傷越嚴(yán)重。(3)頻率越低離子進(jìn)入硅片越深,越有利于多晶硅晶界的鈍化。管式加熱爐的特征:1)被加熱物料在管內(nèi)流動(dòng),僅限于加熱流體;而且這些流體都是易燃易爆的烴類物質(zhì),危險(xiǎn)性大,操作條件很苛刻;2)加熱方式為直接受火式;3)只使用液體或氣體燃料;4)長(zhǎng)周期連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn),不簡(jiǎn)短操作。對(duì)管式加熱爐的基本要求:1)把原料加熱到規(guī)定溫度。2)沒(méi)有局部過(guò)熱或死角的現(xiàn)象,防止原料油在爐管內(nèi)結(jié)焦,以延長(zhǎng)管式爐的運(yùn)轉(zhuǎn)周期。3)在完成任務(wù)的前提下,盡量節(jié)省傳熱面積,降低金屬消耗量。4)提高爐子傳熱效率,減少燃料消耗量。5)造價(jià)低和壽命長(zhǎng)。
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