名片曝光使用說(shuō)明

步驟1:創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼,進(jìn)入虎易名片小程序,使用微信授權(quán)登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2:投放名片

創(chuàng)建名片成功后,將投放名片至該產(chǎn)品“同類(lèi)優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開(kāi)啟名片曝光服務(wù),服務(wù)費(fèi)用為:1虎幣/天。(虎幣充值比率:1虎幣=1.00人民幣)

關(guān)于曝光服務(wù)

名片曝光只限于使用免費(fèi)模板的企業(yè)產(chǎn)品詳細(xì)頁(yè)下,因此當(dāng)企業(yè)使用收費(fèi)模板時(shí),曝光服務(wù)將自動(dòng)失效,并停止扣除服務(wù)費(fèi)。

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產(chǎn)品用途本系列設(shè)備適用于科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)設(shè)備主要用于高溫精密退火、微晶化、陶瓷釉料制備、模具退火、粉末冶金、塑膠粉沫實(shí)驗(yàn)、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及一切做高溫工藝要求的熱處理產(chǎn)品特點(diǎn)殼體采用冷軋鋼板雙層結(jié)構(gòu)獨(dú)特設(shè)計(jì),殼體顏色漆經(jīng)過(guò)高溫烘烤而成,經(jīng)久耐用。配有風(fēng)冷系統(tǒng),該爐具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快等優(yōu)點(diǎn)。真空系統(tǒng)采用特種設(shè)計(jì),具有操作方便、真空度高、真空泄露小,(極限真空度:10-5pa)密封系統(tǒng)采用不銹鋼法蘭與爐管及耐高溫O型硅橡膠密封,氣體經(jīng)過(guò)流量計(jì)后由針閥開(kāi)關(guān)控制,閥控配有進(jìn)氣閥、排氣閥、抽真空閥,可充氮?dú)?、氬氣等一切惰性氣體爐膛采用復(fù)合氧化鋁纖維材料經(jīng)獨(dú)特工藝構(gòu)筑,比傳統(tǒng)電爐節(jié)能30%控制系統(tǒng)采用微電腦人工智能調(diào)節(jié)技術(shù),具有50段程序編程,并可編制各種升溫、恒溫、降溫程序,控溫精度高晶體模塊化可控硅控制、移相觸發(fā);采用加熱元件控制面板:全部采用數(shù)字化控制具有(超溫、超壓、超流、斷偶、斷電等保護(hù)功能)(爐管、加熱區(qū)可根據(jù)客戶(hù)要求定制!)目前,在中國(guó)微波法PECVD系統(tǒng)占據(jù)市場(chǎng)的主流,而管式PECVD系統(tǒng)也占據(jù)不少份額,而島津的板式系統(tǒng)只有5~6條生產(chǎn)線(xiàn)在使用。直流法PECVD系統(tǒng)還沒(méi)有進(jìn)入中國(guó)市場(chǎng)。除了上述幾種模式的PECVD系統(tǒng)外,美國(guó)的AppliedMaterial公司還開(kāi)發(fā)了磁控濺射PECVD系統(tǒng),該系統(tǒng)使用磁控濺射源轟擊硅靶,在氨氣的氣氛中反應(yīng)濺射,形成SiNx分子沉積到樣品表面。這種技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)是不使用易爆的硅烷氣,安全性提高很多,另外沉積速率很高。如果按照PECVD系統(tǒng)所使用的頻率范圍,又可將其分成以下幾類(lèi):■0Hz:直流間接法——OTB公司■40KHz:Centrotherm公司管式直接法PECVD和AppliedMaterial公司的磁控濺射系統(tǒng)■250kHz:島津公司的板式直接法系統(tǒng)■440kHz:Semco公司的板式直接法■460kHz:Centrotherm公司管式直接法■13.6MHz:Semco公司和MVSystem公司的板式直接法系統(tǒng)■2450MHz:Roth
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