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1200度真空管式爐RK1200系列RK1200系列產(chǎn)品用途：主要用于稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等行業(yè)進行真空燒結(jié)、氣氛保護燒結(jié)、真空鍍膜、CVD實驗、物質(zhì)成分測量等場合。產(chǎn)品尺寸：RK1200系列產(chǎn)品分為四個型號：RK1200-60、RK1200-80、RK1200-100、RK1200-120使用容積均為3L，爐膛尺寸分別對應wie：Φ60*1000mm、Φ80*1000mm、Φ100*1000mm、Φ120*1000mm化學氣相沉積(CVD)是半導體工業(yè)中應用為廣泛的用來沉積多種材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。從理論上來說，它是很簡單的：兩種或兩種以上的氣態(tài)原材料導入到一個反應室內(nèi)，然后他們相互之間發(fā)生化學反應，形成一種新的材料，沉積到晶片表面上。淀積氮化硅膜(Si3N4)就是一個很好的例子，它是由硅烷和氮反應形成的。馬弗爐,在中國的通用叫法有以下幾種:電爐、電阻爐、茂福爐、又稱箱式電阻爐。高溫馬弗爐,是一種通用的加熱設(shè)備.可分為箱式爐管式爐坩堝爐。有國產(chǎn)馬弗爐和馬弗爐（美國馬弗爐、德國馬弗爐等），馬弗爐系周期作業(yè)式，供實驗室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測定和一般小型鋼件淬火、退火、回火等熱處理時加熱用，高溫爐還可作金屬、陶瓷的燒結(jié)、溶解、分析等高溫加熱用。
