名片曝光使用說(shuō)明

步驟1:創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼,進(jìn)入虎易名片小程序,使用微信授權(quán)登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2:投放名片

創(chuàng)建名片成功后,將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開啟名片曝光服務(wù),服務(wù)費(fèi)用為:1虎幣/天。(虎幣充值比率:1虎幣=1.00人民幣)

關(guān)于曝光服務(wù)

名片曝光只限于使用免費(fèi)模板的企業(yè)產(chǎn)品詳細(xì)頁(yè)下,因此當(dāng)企業(yè)使用收費(fèi)模板時(shí),曝光服務(wù)將自動(dòng)失效,并停止扣除服務(wù)費(fèi)。

<

返回首頁(yè)

產(chǎn)品分類 更多>>

煙囪高度和爐子本身高度各有作用:煙囪高度所形成的抽力用于:克服煙氣流動(dòng)過(guò)程中的總壓力降,克服空氣通過(guò)燃燒器的壓力降,爐膛內(nèi)具有一定負(fù)壓。爐子本身高度所形成的抽力:輻射室高度所形成的抽力用于克服空氣通過(guò)的燃燒器阻力,對(duì)流室高度所形成的抽力用來(lái)輻射室頂?shù)呢?fù)壓和克服煙氣通過(guò)對(duì)流室的壓力降的一部分。反應(yīng)室中的反應(yīng)是很復(fù)雜的,有很多必須考慮的因素,沉積參數(shù)的變化范圍是很寬的:反應(yīng)室內(nèi)的壓力、晶片的溫度、氣體的流動(dòng)速率、氣體通過(guò)晶片的路程(如圖所示)、氣體的化學(xué)成份、一種氣體相對(duì)于另一種氣體的比率、反應(yīng)的中間產(chǎn)品起的作用、以及需要其它反應(yīng)室外的外部能量來(lái)源加速或誘發(fā)想得到的反應(yīng)等。額外能量來(lái)源諸如等離子體能量,當(dāng)然會(huì)產(chǎn)生一整套新變數(shù),如離子與中性氣流的比率,離子能和晶片上的射頻偏壓等。然后,考慮沉積薄膜中的變數(shù):如在整個(gè)晶片內(nèi)厚度的均勻性和在圖形上的覆蓋特性(后者指跨圖形臺(tái)階的覆蓋),薄膜的化學(xué)配比(化學(xué)成份和分布狀態(tài)),結(jié)晶晶向和缺陷密度等。當(dāng)然,沉積速率也是一個(gè)重要的因素,因?yàn)樗鼪Q定著反應(yīng)室的產(chǎn)出量,高的沉積速率常常要和薄膜的量折中考慮。反應(yīng)生成的膜不僅會(huì)沉積在晶片上,也會(huì)沉積在反應(yīng)室的其他部件上,對(duì)反應(yīng)室進(jìn)行清洗的次數(shù)和徹底程度也是很重要的。主要功能和特點(diǎn):1、爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料,保溫性能好,耐用,節(jié)能。2、加熱元件采用合金絲,經(jīng)久耐用,溫度可達(dá)1200℃。3、采用雙層殼體結(jié)構(gòu),結(jié)合熱感應(yīng)技術(shù),配有風(fēng)冷系統(tǒng),使?fàn)t體表面溫度快速降溫。4、采用RK快速法蘭連接,減少了加熱管損壞的可能,取、放物料更加方便快捷。5、上開式爐蓋設(shè)計(jì),可以實(shí)時(shí)觀察加熱的物料,并能迅速降溫,滿足材料驟冷驟熱的實(shí)驗(yàn)需要;6、智能PID高精度控制,自整定功能,30段可編程控制,可設(shè)置30段升降溫程序,實(shí)現(xiàn)了功率無(wú)損耗。7、預(yù)留真空、氣路快速接口,配合我司真空、混氣系統(tǒng)使用;滿足用戶在不同的真空狀態(tài)及不同的氣氛條件下進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。8、預(yù)留485轉(zhuǎn)換接口,通過(guò)我司專用軟件,與計(jì)算機(jī)互聯(lián),可實(shí)現(xiàn)單臺(tái)或者多臺(tái)電爐的遠(yuǎn)程控制、實(shí)時(shí)追蹤、歷史記錄、輸出報(bào)表等功能;9、具有開啟斷電,超溫報(bào)警,漏電保護(hù)等安全操作功能。
產(chǎn)品推薦
“熱科爐業(yè)(圖)|pecvd管式爐|管式爐”信息由發(fā)布人自行提供,其真實(shí)性、合法性由發(fā)布人負(fù)責(zé)。交易匯款需謹(jǐn)慎,請(qǐng)注意調(diào)查核實(shí)。