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爐體結構：雙層殼體，風冷系統(tǒng)，爐體表面溫度≤60℃爐膛材質：氧化鋁拼搭式爐膛控溫系統(tǒng)：采用人工智能調節(jié)技術，具有PID調節(jié)功能，30段升降溫程序顯示模式：LED數(shù)顯儀表加熱方式：低功耗兩面均勻加熱工作溫度：可達1400℃，連續(xù)工作溫度≤1300℃安全功能：超溫報警、漏電保護可沖氣氛：氮氣、氧氣、氬氣及其它惰性氣體標準配置：防護手套,坩堝,剛玉舟,剛玉管,爐塞,爐勾,內六角扳手,法蘭,高壓氣管,高溫密封圈,浮子流量計,氣管轉接頭,產品說明書,儀表說明書,保修證書叫管式加熱爐？它有些特性？答：管式加熱爐是石油煉制、石油化工和化學、化纖工業(yè)中使用的工藝加熱爐，它具有其它工業(yè)爐所沒有的若干特點。其基本特點：具有用耐火材料包圍的燃燒室，利用燃料燃燒產生的熱量將物質加熱的一種設備。管式加熱爐特性：1）被加熱物質在管內流動，故僅限于加熱氣體或液體；2）加熱方式為直接受火式；3）只燒液體或氣體燃料；4）長周期連續(xù)運轉，不間斷操作。對許多金屬和金屬合金一個有趣的爭論就是，他們是通過物理氣相沉積(PVD)還是通過化學氣相沉積(CVD)能得到.好的沉積效果。盡管CVD比PVD有更好的臺階覆蓋特性，但目前諸如銅的子晶層和鉭氮擴散層薄膜都是通過PVD來沉積的，因為現(xiàn)有的大量裝置都是基于PVD系統(tǒng)的，工程技術人員對PVD方法也有較高的熟練程度。一些人建議，既然臺階覆蓋特性越來越重要(尤其是在通孔邊墻覆蓋)，CVD方法將成為必不可少的技術。相似的爭論也存在于產生低k值介質材料方面：是使用CVD方法好還是采用旋涂工藝好？在化學氣相沉積中，決定晶圓間薄膜均勻性的重要參數(shù)之一是晶圓間的氣體是流動的。上圖所示是Novellus概念下ThreeALTUS系統(tǒng)中，一個晶圓及其基座上的SiH4集中度和鎢沉積率的典型路徑圖。
