PECVD法按沉積腔室等離子源與樣品的關(guān)系上可以分成兩種類型：直接法：樣品直接接觸等離子體，樣品或樣品的支撐體就是電極的一部分。間接法：或稱離域法。待沉積的樣品在等離子區(qū)域之外，等離子體不直接打到樣品表面，樣品或其支撐體也不是電極的一部分。直接法又分成兩種：（1）管式PECVD系統(tǒng)：即使用像擴散爐管一樣的石英管作為沉積腔室，使用電阻爐作為加熱體，將一個可以放置多片硅片的石墨舟插進石英管中進行沉積。這種設(shè)備的主要制造商為德國的Centrotherm公司、中國的捷佳偉創(chuàng)公司、第四十八研究所、七星華創(chuàng)公司、青島賽瑞達公司。（2）板式PECVD系統(tǒng)：即將多片硅片放置在一個石墨或碳纖維支架上，放入一個金屬的沉積腔室中，腔室中有平板型的電極，與樣品支架形成一個放電回路，在腔室中的工藝氣體在兩個極板之間的交流電場的作用下在空間形成等離子體，分解SiH4中的Si和H，以及NH3中的N形成SiNx沉積到硅表面。這種沉積系統(tǒng)目前主要是日本島津公司在進行生產(chǎn)。間接法又分成兩種：（1）微波法：使用微波作為激發(fā)等離子體的頻段。微波源置于樣品區(qū)域之外，先將氨氣離化，再轟擊硅烷氣，產(chǎn)生SiNx分子沉積在樣品表面。這種設(shè)備目前的主要制造商為德國的Roth&Rau公司。（2）直流法：使用直流源激發(fā)等離子體，進一步離化氨氣和硅烷氣。樣品也不與等離子體接觸。這種設(shè)備由荷蘭的OTB公司生產(chǎn)。加熱爐回火的現(xiàn)象及原因是什么？應(yīng)該怎樣預(yù)防？答：現(xiàn)象：爐膛內(nèi)產(chǎn)生正壓，防爆門頂開，火焰噴出爐膛，回火傷人或爐膛內(nèi)發(fā)生爆.炸而造成設(shè)備的損壞。原因：1)燃料油大量噴入爐內(nèi)或瓦斯大量帶油；2)煙道檔板開度過小，降低了爐子抽力，使煙氣排不出去；3)爐子超負荷運行，煙氣來不及排放；4)開工時點火發(fā)生回火，主要是瓦斯閥門不嚴，使瓦斯串入爐內(nèi)，或因一次點不著，再次點火前如爐膛吹掃不凈，造成爐膛爆.炸回火。預(yù)防措施：1)嚴禁燃料在點燃前大量進入爐內(nèi)，瓦斯嚴禁帶油；2)搞清煙道檔板的實際位置，嚴防在調(diào)節(jié)煙道檔板時將檔板關(guān)死或關(guān)得太小；3)不能超負荷運行，應(yīng)使爐內(nèi)始終保持負壓操作；4)加強設(shè)備管理，瓦斯閥門不嚴的要及時更換修理；5)開工點火前應(yīng)注意檢查瓦斯和燃料油的閥門是否嚴密，每次點火前必須將爐膛內(nèi)的可燃氣體用蒸汽吹掃干凈。管式氣氛爐的主要結(jié)構(gòu)分為兩大類，如下：1.管式氣氛爐的外殼采用鋼板這邊焊接而成，外表靜電噴涂，美觀大方。爐膛采用耐高溫的碳化硅材料制成，加熱元件為鐵鉻鋁合金絲纏繞在爐膛上。工作室為優(yōu)質(zhì)高密度剛玉管，剛玉管的兩端配有法蘭裝置，可以對爐膛內(nèi)部抽真空。也可以通入氣氛保護。2.控制部分采用數(shù)顯自動控溫，也可以根據(jù)用戶的需要配置智能PID控溫儀，可以設(shè)置50段升溫曲線，具有超溫報警功能。