PECVD法按沉積腔室等離子源與樣品的關(guān)系上可以分成兩種類型：直接法：樣品直接接觸等離子體，樣品或樣品的支撐體就是電極的一部分。間接法：或稱離域法。待沉積的樣品在等離子區(qū)域之外，等離子體不直接打到樣品表面，樣品或其支撐體也不是電極的一部分。直接法又分成兩種：（1）管式PECVD系統(tǒng)：即使用像擴(kuò)散爐管一樣的石英管作為沉積腔室，使用電阻爐作為加熱體，將一個可以放置多片硅片的石墨舟插進(jìn)石英管中進(jìn)行沉積。這種設(shè)備的主要制造商為德國的Centrotherm公司、中國的捷佳偉創(chuàng)公司、第四十八研究所、七星華創(chuàng)公司、青島賽瑞達(dá)公司。（2）板式PECVD系統(tǒng)：即將多片硅片放置在一個石墨或碳纖維支架上，放入一個金屬的沉積腔室中，腔室中有平板型的電極，與樣品支架形成一個放電回路，在腔室中的工藝氣體在兩個極板之間的交流電場的作用下在空間形成等離子體，分解SiH4中的Si和H，以及NH3中的N形成SiNx沉積到硅表面。這種沉積系統(tǒng)目前主要是日本島津公司在進(jìn)行生產(chǎn)。間接法又分成兩種：（1）微波法：使用微波作為激發(fā)等離子體的頻段。微波源置于樣品區(qū)域之外，先將氨氣離化，再轟擊硅烷氣，產(chǎn)生SiNx分子沉積在樣品表面。這種設(shè)備目前的主要制造商為德國的Roth&Rau公司。（2）直流法：使用直流源激發(fā)等離子體，進(jìn)一步離化氨氣和硅烷氣。樣品也不與等離子體接觸。這種設(shè)備由荷蘭的OTB公司生產(chǎn)。管式加熱爐的余熱回收系統(tǒng)包括哪些方面？答：包括余熱鍋爐、空氣預(yù)熱器、鼓風(fēng)機(jī)、引風(fēng)機(jī)、煙風(fēng)道及其調(diào)節(jié)和截斷用蝶閥等,如圖8所示。什么叫燃燒器？燃燒器的組成和種類有哪些？答：燃燒器是一種將燃料和空氣按照所需混合比和流速在湍流條件下集中送入爐內(nèi)，確保和維持點(diǎn)火及燃燒條件的部件。燃燒器通常由燃料噴嘴、配風(fēng)器和燃燒道三個部分組成。燃燒器的種類有燃油燃燒器、燃?xì)馊紵骱陀?氣聯(lián)合燃燒器。輻射室和對流室的熱負(fù)荷是如何分配的？答：輻射對流型的加熱爐熱負(fù)荷分配如下。1）筒形立管式加熱爐：對流段采用釘頭管或翅片管時，輻射占70％～80％，對流占20％～30％。對流段采用非釘頭管或翅片管時，輻射占70％～75％，對流占25％～30％。2)臥管立式爐：輻射占70％－75％，對流占25％－30%。21什么叫圓筒爐？圓筒爐有什么特點(diǎn)？答：顧名思義，輻射室為圓筒形的管式爐叫圓筒爐，對流室和煙囪布置在輻射室的上部，燃燒室布置在爐底，向上燒火。輻射室爐管排列有立管和螺旋兩種，對流室爐管一般是水平布置的。圓筒爐結(jié)構(gòu)簡單，制造安裝方便，投資少，占地少。適用于中小負(fù)荷的管式爐，一般25MW以下的爐子優(yōu)先選用圓筒爐。