名片曝光使用說明

步驟1:創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼,進(jìn)入虎易名片小程序,使用微信授權(quán)登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2:投放名片

創(chuàng)建名片成功后,將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開啟名片曝光服務(wù),服務(wù)費(fèi)用為:1虎幣/天。(虎幣充值比率:1虎幣=1.00人民幣)

關(guān)于曝光服務(wù)

名片曝光只限于使用免費(fèi)模板的企業(yè)產(chǎn)品詳細(xì)頁下,因此當(dāng)企業(yè)使用收費(fèi)模板時,曝光服務(wù)將自動失效,并停止扣除服務(wù)費(fèi)。

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是頂燒爐?答:制氫轉(zhuǎn)化爐是制氫裝置的關(guān)鍵設(shè)備,大多采用頂燒爐,其輻射室為箱式結(jié)構(gòu),燃燒器布置在爐頂,一排燃燒器,一排爐管順序布置。制氫轉(zhuǎn)化爐的操作條件是苛刻的,轉(zhuǎn)化管系統(tǒng)都是高鉻鎳合金材料,因此采用單排管雙面輻射型爐,可以避免局部過熱,使?fàn)t管周向和軸向溫度分布均勻,提高爐管的利用率。實(shí)際上,制氫轉(zhuǎn)化爐是一個多管并流的外加熱式反應(yīng)器,爐管內(nèi)裝有催化劑,管內(nèi)介質(zhì)一邊吸熱,一邊進(jìn)行著復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)。產(chǎn)品名稱:單管滑動式快速退火爐產(chǎn)品型號:RK-1200T-S6015LK1-H爐管尺寸:Φ60mmX1500mm溫區(qū)長度:440mm(更多規(guī)格可按照客戶要求定制)恒溫區(qū)長:260mm工作溫度:1100℃溫控系統(tǒng):30段PID微電腦可編程自動控制(用戶可選配液晶觸摸屏顯示)溫控精度:±1℃恒溫精度:±1℃溫控保護(hù):具有超溫和斷偶保護(hù)功能加熱元件:合金加熱絲加熱速率:0~20℃/分爐膛材料:采用日本爐膛材料,不掉粉、材料保溫性能好、反射率高、溫場均衡,抗熱漲冷縮能力強(qiáng)滑軌尺寸:鍍Cr厚鋼板做的雙向滑軌滑動長度:1200mm法蘭接頭:標(biāo)配配有兩個不銹鋼真空法蘭,已安裝機(jī)械壓力表和不銹鋼截止閥。密封系統(tǒng):該爐爐管與法蘭之間采用硅膠O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復(fù)撤卸,氣密性好、可12小時壓力表指針不偏轉(zhuǎn)。爐管:可選氣煉石英爐管、剛玉爐管凈重:80KG提供相關(guān)配件:氣煉石英爐管、真空法蘭、高溫手套、坩堝鉤、熱電偶、剛玉坩堝、爐塞、說明是等其他配件用戶可選配電氣認(rèn)證:CE認(rèn)證對許多金屬和金屬合金一個有趣的爭論就是,他們是通過物理氣相沉積(PVD)還是通過化學(xué)氣相沉積(CVD)能得到.好的沉積效果。盡管CVD比PVD有更好的臺階覆蓋特性,但目前諸如銅的子晶層和鉭氮擴(kuò)散層薄膜都是通過PVD來沉積的,因?yàn)楝F(xiàn)有的大量裝置都是基于PVD系統(tǒng)的,工程技術(shù)人員對PVD方法也有較高的熟練程度。一些人建議,既然臺階覆蓋特性越來越重要(尤其是在通孔邊墻覆蓋),CVD方法將成為必不可少的技術(shù)。相似的爭論也存在于產(chǎn)生低k值介質(zhì)材料方面:是使用CVD方法好還是采用旋涂工藝好?在化學(xué)氣相沉積中,決定晶圓間薄膜均勻性的重要參數(shù)之一是晶圓間的氣體是流動的。上圖所示是Novellus概念下ThreeALTUS系統(tǒng)中,一個晶圓及其基座上的SiH4集中度和鎢沉積率的典型路徑圖。
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