名片曝光使用說明

步驟1：創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼，進入虎易名片小程序，使用微信授權(quán)登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2：投放名片

創(chuàng)建名片成功后，將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開啟名片曝光服務(wù)，服務(wù)費用為：1虎幣/天。(虎幣充值比率：1虎幣=1.00人民幣)

關(guān)于曝光服務(wù)

名片曝光只限于使用免費模板的企業(yè)產(chǎn)品詳細頁下，因此當企業(yè)使用收費模板時，曝光服務(wù)將自動失效，并停止扣除服務(wù)費。

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74FCT3807PY 原裝 IDT 2013 1000 SSOP 74F139PC 原裝 NSC 2013 1200 DIP 74F14 原裝 2013 1200 74F148SJ 原裝 FAIRCHILD 2013 1200 SOP5.2 74F14D 原裝 NXP 2013 1000 SMD 74F14DR2 原裝 MOT 2013 1000 3.9mm 74FST3245Q 原裝 IDT 2013 1000 SSOP 74FST3245SO 原裝 IDT 2013 1041 7.2mm 至于未來向10nm挺進時，業(yè)界一直有爭論，一種方案是采用FinFET結(jié)構(gòu)，但是工藝制程上采用DP技術(shù)已經(jīng)不行了，可能必須采用3次或者4次圖形曝光技術(shù)，另一種方案是等待EUV設(shè)備的降臨。盡管EUV光刻工藝，從理論上由于曝光波長才13.4nm，在10nm時可以不必采用DP，從而節(jié)省成本（注：到了7nm時，即使是EUV也需要采用DP技術(shù)）。但是采用EUV相應(yīng)也會帶來產(chǎn)業(yè)鏈的轉(zhuǎn)變，同樣非同小可。 之前的困局是由于光源的功率不足等原因，導致EUV設(shè)備一再被推遲，讓業(yè)界幾乎喪失信心，都認為在10nm時插入EUV光刻工藝毫無希望，可能要等到7nm。 所以業(yè)界把進入10nm工藝制程看做是“站在十字路口”，盡管從技術(shù)層面上采用多次DP也能通過，然而從經(jīng)濟角度上講不一定誰都能夠接受。
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