名片曝光使用說明

步驟1：創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼，進入虎易名片小程序，使用微信授權登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2：投放名片

創(chuàng)建名片成功后，將投放名片至該產品“同類優(yōu)質商家”欄目下,即開啟名片曝光服務，服務費用為：1虎幣/天。(虎幣充值比率：1虎幣=1.00人民幣)

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HMDS預處理干燥箱，200度真空度≤100Pa真空鍍膜機HMDS預處理系統(tǒng)的必要性： 在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結合，起著偶聯(lián)劑的作用。 硅片光刻預處理系統(tǒng)（OAP真空烘箱）用于硅片光刻前預處理，以增加光刻膠粘結牢度，提高光刻質量及良品率。 設備構成及控制方式：設備主要由腔體，電氣控制箱以及真空泵組成。采用可編程控制器、操作界面為5.7” E-view觸摸屏加外部常用按鈕控制。 一、動力要求 電源：AC380V,3相，50Hz,12KAV 壓縮空氣：0.5MPa, 外徑8mm接口 氮 氣：0.5MPa，外徑8mm接口 排 風：烘箱排風接口外徑90，泵排風接口外徑45 二、標準配置 1.烘箱主機 2.機械泵 3.電磁真空帶充氣截止閥 4.40金屬波紋真空管 5.機械泵小車 6.電磁控制閥 網站：www.done-e.com. HMDS預處理干燥箱，200度真空度≤100Pa真空鍍膜機
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“200度真空度≤100Pa真空鍍膜機”信息由發(fā)布人自行提供，其真實性、合法性由發(fā)布人負責。交易匯款需謹慎，請注意調查核實。