廈門濺射鍍膜/廈門濺射鍍膜廠家/廈門濺射鍍膜價(jià)格/玉通 廈門玉通光電有限公司，自2005年以來(lái)是一家專門從事真空鍍膜行業(yè)，以研發(fā)、生產(chǎn)為一體的科技公司。 2012年7月，本公司擴(kuò)大了產(chǎn)業(yè)規(guī)模，新上了福建省首條卷繞鍍膜生產(chǎn)線，廠房更新至海滄新陽(yáng)工業(yè)區(qū)，成立了真空鍍膜行業(yè)研發(fā)小組，組織國(guó)內(nèi)外多名大學(xué)的、學(xué)者參與到研發(fā)中來(lái)，成立了聯(lián)合研發(fā)試驗(yàn)基地。本公司現(xiàn)有研究生等科技人員6名，三條生產(chǎn)線，年生產(chǎn)量70萬(wàn)㎡。 本公司產(chǎn)品范圍：ITO導(dǎo)電薄膜、ITO導(dǎo)電玻璃、PMMA、PC、PET等板材鍍膜。 廈門玉通光電有限公司倡導(dǎo)“求真、務(wù)實(shí)、誠(chéng)信、創(chuàng)新”的發(fā)展核心理念，以誠(chéng)信為本、質(zhì)量的宗旨，為廣大國(guó)內(nèi)外客商提供的服務(wù)。 廈門玉通光電有限公司，自2005年以來(lái)是一家專門從事真空鍍膜行業(yè)，以研發(fā)、生產(chǎn)為一體的科技公司。公司生產(chǎn)ITO導(dǎo)電膜、光學(xué)膜、導(dǎo)電膜、彩色膜、非導(dǎo)電膜、裝飾膜、防爆膜 是為了在低氣壓下進(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率的方法。 在二極濺射中增加一個(gè)平行于靶表面的封閉磁場(chǎng)，借助于靶表面上形成的正交電磁場(chǎng)，把二次電子束縛在靶表面特定區(qū)域來(lái)增強(qiáng)電離效率，增加離子密度和能量，從而實(shí)現(xiàn)高速率濺射的過(guò)程。 磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)E的作用下，在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜，而產(chǎn)生的二次電子會(huì)受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)作用，產(chǎn)生E（電場(chǎng)）×B（磁場(chǎng)）所指的方向漂移，簡(jiǎn)稱E×B漂移，其運(yùn)動(dòng)軌跡近似于 磁控濺射一條擺線。若為環(huán)形磁場(chǎng)，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運(yùn)動(dòng)，它們的運(yùn)動(dòng)路徑不僅很長(zhǎng)，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi)，并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar 來(lái)轟擊靶材，從而實(shí)現(xiàn)了高的沉積速率。隨著碰撞次數(shù)的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠(yuǎn)離靶表面，并在電場(chǎng)E的作用下終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。 磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過(guò)程。入射粒子在靶中經(jīng)歷復(fù)雜的散射過(guò)程，和靶原子碰撞，把部分動(dòng)量傳給靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成級(jí)聯(lián)過(guò)程。在這種級(jí)聯(lián)過(guò)程中某些表面附近的靶原子獲得向外運(yùn)動(dòng)的足夠動(dòng)量，離開靶被濺射出來(lái)。