名片曝光使用說明

步驟1：創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼，進入虎易名片小程序，使用微信授權登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2：投放名片

創(chuàng)建名片成功后，將投放名片至該產品“同類優(yōu)質商家”欄目下,即開啟名片曝光服務，服務費用為：1虎幣/天。(虎幣充值比率：1虎幣=1.00人民幣)

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英國Thermco公司擴散爐、LPCVD、氧化爐、退火爐、合金化爐  產品概述 英國Thermco Systems公司成立于1962年，是世界上著名的臥式擴散爐、氧化爐、退火爐、合金化爐及LPCVD爐的制造商，在全球各處的半導體制造廠里都有大量的安裝應用，迄今為止安裝記錄已超過20000管。 根據(jù)基片尺寸以及產量要求的不同，HTR系列可分為6200，5100/5200，4500/4900，2400/2600等；可處理4¨~10¨的基片，每管處理能力分別可達25片、50片或100片；根據(jù)配置不同的工藝氣源及溫度控制范圍，各型號的產品均可用于LPCVD、擴散及氧化等熱處理反應工藝。  產品應用 標準半導體工藝 ?LPCVD氮化硅（標準型) ?LPCVD氮化硅（低應力型） ?LPCVD斜坡溫度多晶硅 ?LPCVD一致晶粒多晶硅 ?LPCVD氧化層TEOS（正硅酸乙脂） ?LPCVD VLTO（低溫氧化） ?LPCVD BPSG（硼磷硅玻璃） ? 高溫氧化 ? 干法氧化 ? 濕法氧化 ? 摻雜擴散 （3-4路液相摻雜管路 ( POCL3 or BBR3)） ? 5-6路TCA或Hcl氣路 ? 混合氣體退火 ? 高溫熱回火 ? 低溫退火和合金化 ? 高溫驅入（Drive in） 標準LED工藝 ?高真空退火（環(huán)境可控） ?低溫合金化/退火 標準PV（太陽能）工藝 ?濕氧/干氧 ?PN結驅入 ?Forming氣體退火 ?氫氣退火 ?低溫熱處理 ?POCl3，BBr3 PN結和槽 ?反射氮化膜（ARC Nitride coating） 標準MEMS（微機電）工藝 ?低應力CVD氮化物 ?氧氮化物SIPOS ?厚氧 ?TEOS，良好的臺階覆蓋能力 ?多晶硅和摻雜多晶硅

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