名片曝光使用說明

步驟1:創(chuàng)建名片

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步驟2:投放名片

創(chuàng)建名片成功后,將投放名片至該產品“同類優(yōu)質商家”欄目下,即開啟名片曝光服務,服務費用為:1虎幣/天。(虎幣充值比率:1虎幣=1.00人民幣)

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PVDF聚偏二氟乙烯 1.聚偏氟乙烯(PVDF)具有較高的機械強度和輻射穩(wěn)定性,是由于其基本的屬性。 偏氟乙烯(VDF)的分子屬于不對稱分子,體積和電負性都不相同的兩個氫原子和兩個氟原子分別與一個碳原子相連,因此PVDF高分子鏈具有較高的規(guī)整度,分子鏈間排列較密,且存在較強的氫鍵,是具有較高結晶度的聚合物。 PVDF由-CH2-CF2-重復單元構成,是結晶度為50~80%的結晶性聚合物。由于PVDF的分子骨架具有大的偶極矩極其聚集體的結晶存在,從而決定了該材料的機械性能、熱性能、溶解性、溶劑溶脹性、電性能、耐候性等特性。當含有一定數量的“頭-頭”連接異常結合時,會使結晶性受到影響。異常結合使結晶內部產生缺陷部位,增加對溶劑的溶脹性,使熔點降低。這種異常結合存在的比例,是取決于聚合條件,尤其依賴聚合溫度。 大部分氟塑料耐輻照性能不是太好,但PVDF卻是例外。PVDF薄膜經3×10E8拉特計量γ射線輻照后,未見其性能嚴重下降,與此相比如PTFE在8×10E8拉特下,已經脆到無法進行測試了。 M.D.Duca等人以非單色光MgKa源產生的X射線對PVDF進行輻照,采用X射線光電子光譜分析法(XPS)研究了PVDF的表面結構及電子變化。結果表明,PVDF經過軟X射線照射之后,聚合物表面出現了“氟貧化”現象,及CF2(290.90eV)基團的百分率減小,而CF(288.30eV)基團的百分率增大,但組成的變化卻不明顯,這是因為隨著PVDF表面的脫氟,不與氟原子直接相連的碳原子產生了交聯(lián)以及形成了雙鍵的緣故。(CH、=CH-)基團的出現是X射線輻照所致,盡管如此,對于PVDF來說,XPS仍不失為一種無損表面的分析技術,因為,在短暫的分析時間內,X射線的損害并不明顯. 2.聚偏氟乙烯的用途非常廣泛,在含氟聚合物品種當中,全球消費總量僅次于PTFE被列為含氟聚合物第二大類。 由于均聚物的剛性較高,不適宜應用于電線電纜覆被。為了改變其剛性提高柔軟性,采用第二(或第二+第三)單彈體進行二元(或三元)共聚改性。例如:偏氟乙烯(VDF)與四氟乙烯(TFE)改性共聚物、VDF與六氟丙烯(HFP)改性共聚物、VDF-TFE-HFP改性共聚物,等等。改性PVDF提高了較柔軟性和韌性等特性,被大量應用在電線電纜等領域。
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