名片曝光使用說(shuō)明

步驟1:創(chuàng)建名片

微信掃描名片二維碼,進(jìn)入虎易名片小程序,使用微信授權(quán)登錄并創(chuàng)建您的名片。

步驟2:投放名片

創(chuàng)建名片成功后,將投放名片至該產(chǎn)品“同類優(yōu)質(zhì)商家”欄目下,即開(kāi)啟名片曝光服務(wù),服務(wù)費(fèi)用為:1虎幣/天。(虎幣充值比率:1虎幣=1.00人民幣)

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應(yīng)力導(dǎo)向氫致開(kāi)裂SOHIC測(cè)試NACE TM 0103-2003標(biāo)準(zhǔn)

在應(yīng)力引導(dǎo)下,夾雜物或缺陷處因氫聚集而形成的小裂紋疊加,沿著垂直于應(yīng)力的方向(即鋼板的壁厚方向)發(fā)展導(dǎo)致的開(kāi)裂稱為應(yīng)力導(dǎo)向氫致開(kāi)裂。其典型特征是裂紋沿“之”字形擴(kuò)展。有人認(rèn)為,它也是應(yīng)力腐蝕開(kāi)裂(SSCC)的一種特殊形式。

   SOHIC也常發(fā)生在焊縫熱影響區(qū)及其他高應(yīng)力集中區(qū),與通常所說(shuō)的SSCC不同的是SOHIC對(duì)鋼中的夾雜物比較敏感。應(yīng)力集中常為裂紋狀缺陷或應(yīng)力腐蝕裂紋所引起,據(jù)報(bào)道,在多個(gè)開(kāi)裂案例中都曾觀測(cè)到SSCC和SOHIC并存的情況.

評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn):

CCL(連續(xù)開(kāi)裂長(zhǎng)度)≤2%,DCL(不連續(xù)開(kāi)裂長(zhǎng)度)≤5%,

TCL(總開(kāi)裂長(zhǎng)度)≤7%;

氫鼓泡:?jiǎn)蝹€(gè)試樣表面的氫鼓泡面積不超過(guò)試樣面積的1%,且任何一個(gè)氫鼓泡的直徑不超過(guò)1mm。

還可以從事以下金屬腐蝕測(cè)試。

SSC硫 化氫應(yīng)力腐蝕:

標(biāo)準(zhǔn)拉伸試驗(yàn)    標(biāo)準(zhǔn)彎梁試驗(yàn)       標(biāo)準(zhǔn)C型環(huán)試驗(yàn)     標(biāo)準(zhǔn)雙懸臂梁試驗(yàn)

   標(biāo)準(zhǔn):  NACE TM 0177-2005        NACE RM 0175-2000      ASTM G39-99

            GB/T4157-2006    ISO15156-2001

抗氫誘導(dǎo)裂紋試驗(yàn)HIC測(cè)試

HIC氫脆 :

    裂紋敏感性比值CSR         裂紋長(zhǎng)度比值CLR           裂紋厚度比值CTR   

標(biāo)準(zhǔn):NACE TM 0284-2003        NACE RM 0175 - 2000

產(chǎn)品推薦
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