磁控濺射靶材
(可為電子與半導體,平面顯示行業(yè),建筑與汽車玻璃行業(yè),薄膜太陽能電池行業(yè),磁存儲行業(yè),工具行業(yè),裝飾行業(yè)提供高品質(zhì)靶材)
單質(zhì)金屬濺射靶材(3N-6N):鋁靶Al,鉻靶Cr,銅靶Cu,鎳靶Ni,硅靶Si,鍺靶Ge,
鈮靶Nb,鈦鈀Ti,銦靶In,銀靶Ag,錫靶Sn,石墨靶C,鉭靶Ta,鉬靶Mo,金靶Au,
鉿靶Hf,錳靶Mn,鋯靶Zr,鎂靶Mg,鋅靶Zn,鉛靶Pb,銥靶Ir,釔靶Y,鈰靶Ce,
鑭靶La,鐿靶Yb,釓靶Gd,鉑靶Pt等單質(zhì)金屬濺射靶材。
高密度陶瓷濺射靶材(3N-5N):ITO靶、AZO靶,IGZO靶,氧化鎂靶MgO、氧化釔靶Y2O3,
氧化鐵靶Fe2O3,氧化鎳靶Ni2O3,氧化鉻靶Cr2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鎘靶CdS,
硫化鉬靶MoS2,二氧化硅靶SiO2、一氧化硅靶SiO、二氧化鋯靶ZrO2、五氧化二鈮靶Nb2O5、
二氧化鈦靶TiO2,二氧化鉿靶HfO2,二硼化鈦靶TiB2,二硼化鋯靶ZrB2,三氧化鎢靶WO3,
三氧化二鋁靶Al2O3,五氧化二鉭靶Ta2O5、氟化鎂靶MgF2、硒化鋅靶ZnSe、氮化鋁靶AlN,
氮化硅靶Si3N4,氮化硼靶BN,氮化鈦靶TiN,碳化硅靶SiC,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、
鈦酸鑭靶等高密度陶瓷濺射靶材.