設(shè)備的工作原理 EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動(dòng)下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng),成為濃水。 EDI設(shè)備一般以反滲透(RO)水作為EDI給水。RO水電阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI水電阻率可以高達(dá)18 MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的水。 EDI超水設(shè)備的進(jìn)水水質(zhì)要求 PH：5-9 硬度：< 0.1 mg/LasCaCO 3 硅：<0.5mg/L TOC：<0.5 mg/L 余氯：<0.05mg/L Fe，Mn，H 2 S：<0.01 mg/L 進(jìn)水壓：30 - 100PSI 產(chǎn)品12 EDI超水設(shè)備的優(yōu)點(diǎn) 1、EDI超水設(shè)備50T/H的出水水質(zhì)具有的穩(wěn)定度。 2、能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超水。 3、模塊化生產(chǎn)，并可實(shí)現(xiàn)PLC全自動(dòng)控制。 4、不需酸堿再生，無污水排放。 5、EDI超水設(shè)備50T/H不會(huì)因再生而停機(jī)。 應(yīng)用領(lǐng)域 電子行業(yè)如顯像管玻殼、顯像管、單晶硅半導(dǎo)體、印刷線路板、液晶顯示器、光盤、計(jì)算器硬盤、集成電路芯片等清洗用水。 公司長(zhǎng)期發(fā)展以來，一直以客戶為主體，可以根據(jù)客戶提供的具體情況以及對(duì)產(chǎn)水質(zhì)量和用水量的要求，研究出只符合客戶自身具體情況的處理方案，可以為客戶降低成本，提益。公司對(duì)售出的產(chǎn)品技術(shù)服務(wù)有一定的承諾，對(duì)售出的產(chǎn)品做售后跟蹤以及定期做客戶回訪并聽取客戶的意見，如若售出的產(chǎn)品有任何質(zhì)量問題無條件包退包換。 經(jīng)營理念：顧客至上，用心服務(wù)。 服務(wù)承諾：您的滿意才是我們的滿意！